Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Ab Initio Studies of Al and Ga Adsorption on 4H-SiC{0001} Surfaces

Tytuł:
Ab Initio Studies of Al and Ga Adsorption on 4H-SiC{0001} Surfaces
Autorzy:
Wachowicz, E.
Sznajder, M.
Majewski, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1403647.pdf
Data publikacji:
2012-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.47.Fg
68.35.bg
68.43.Bc
68.43.Fg
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 122, 6; 1045-1048
0587-4246
1898-794X
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Changes in the atomic and electronic structure of Si- and C-terminated 4H-SiC{0001} surfaces resulting from aluminium and gallium adsorption have been studied within density functional theory framework. Al and Ga coverages ranging from a submonolayer to one monolayer were considered. Our results show that Al binds more strongly to both surfaces than Ga. The binding is stronger to the C-terminated surface for both metals. The sites occupied by Al and Ga atoms at 1 monolayer are different and it is due to a different charge transfer from metal to the substrate.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies