Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Effect of Cu Negative Ion Implantation on Physical Properties of $Zn_{1-x}Mn_xTe$ Films

Tytuł:
Effect of Cu Negative Ion Implantation on Physical Properties of $Zn_{1-x}Mn_xTe$ Films
Autorzy:
Pogrebnjak, A.
Shypylenko, A.
Amekura, H.
Takeda, Y.
Opanasyuk, A.
Kurbatov, D.
Kolotova, I.
Klymov, O.
Kozak, C.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1400485.pdf
Data publikacji:
2013-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.05.cp
61.72.uj
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2013, 123, 5; 939-942
0587-4246
1898-794X
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
The paper deals with the investigations of structural properties of $Zn_{1-x}Mn_xTe$ films, which were fabricated under various deposition conditions using the thermal evaporation method in a closed volume. The surface morphology of the samples was studied, the phase analysis of their structures was performed, the elemental analysis of the films and the crystal lattice constant were investigated. The texture perfection of the films before and after copper ion implantation was evaluated.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies