A new microchannel fabrication technology for fused silica substrate is presented. A mode-locked laser was used to fabricate straight microchannels in a fused silica substrate by laser plasma-induced plasma. The depth of the channels is up to 5 mm and there are no thermal cracks around the channel. We studied the ionization mechanism of optical breakdown formed by laser pulses and discussed the optical breakdown threshold. A mechanism is proposed to explain the formation of the microchannels and the characteristics of the microchannels are analyzed through the laser pulse characteristics.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00