As-grown $Tl_2Ga_2S_3Se$ crystals have been doped by ion implantation technique. The samples were bombarded at room temperature in the direction perpendicular to the layer by N ion beam of about 120 keV having dose of $1 \times 10^{16} \text{ions}//cm^2$. The effect of N implantation with annealing at 300C was studied by using thermally stimulated current measurements. The investigations were performed in temperatures ranging from 10 to 290 K. The experimental evidence was found for presence of one deep hole trapping center with activation energy of 392 meV. The capture cross-section was calculated as $3.9 \times 10^{-20} cm^2$. Also the concentration of the traps was estimated to be $8.0 \times 10^{11} cm^{-3}$.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00