Effect of High Energy Electron Irradiation on Structure and Optical Properties of ZnO Films

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Effect of High Energy Electron Irradiation on Structure and Optical Properties of ZnO Films
Autorzy:: Myroniuk, D.
Lashkarev, G.
Shtepliuk, I.
Lazorenko, V.
Maslyuk, V.
Timofeeva, I.
Romaniuk, A.
Strelchuk, V.
Kolomys, O.
Khomyak, V.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/1399153.pdf
Data publikacji:: 2013-11
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:: 61.80.-x
78.55.Et
71.55.Gs
Źródło:: Acta Physica Polonica A; 2013, 124, 5; 891-894
0587-4246
1898-794X
Język:: angielski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

Zinc oxide films were grown on sapphire substrates by direct current magnetron sputtering and irradiated by electrons with energy 10 MeV and fluences $10^{16}$ and $2 \times 10^{16} cm^{-2}$. As-grown and irradiated samples were investigated by X-ray diffraction and photoluminescence spectroscopy. It was found that radiation causes the appearance of complex defects, reducing the size of coherent scattering regions and the increase of the defect PL band.

Informacja

Powiązane pozycje