X-Ray Photoelectron Spectroscopy Study of Nitrogen and Aluminum-Nitrogen Doped ZnO Films

Szczegóły
Opis

Tytuł:: X-Ray Photoelectron Spectroscopy Study of Nitrogen and Aluminum-Nitrogen Doped ZnO Films
Autorzy:: Ievtushenko, A.
Khyzhun, O.
Shtepliuk, I.
Tkach, V.
Lazorenko, V.
Lashkarev, G.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/1399119.pdf
Data publikacji:: 2013-11
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:: 79.60.-i
77.55.hf
68.55.Ln
Źródło:: Acta Physica Polonica A; 2013, 124, 5; 858-861
0587-4246
1898-794X
Język:: angielski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

Undoped, nitrogen-doped and aluminum-nitrogen co-doped ZnO films were deposited on Si substrates by magnetron sputtering using layer-by-layer method of growth. X-ray photoelectron spectroscopy was employed to characterize electronic properties of undoped and nitrogen doped ZnO films. The effects of N and N-Al incorporation into the ZnO matrix on the X-ray photoelectron spectroscopy core-level and valence-band spectra of the films were studied and discussed.

Informacja

Powiązane pozycje