We have studied oxidation kinetics of Fe thin films under atmospheric conditions using the fact that metallic iron is a ferromagnet but ultrathin natural iron oxides are practically nonmagnetic at room temperature. As a consequence, oxidation is associated with a loss in ferromagnetism. Fe thin films were deposited onto 1.5 nm V thick buffer layer using UHV magnetron sputtering. As a substrate we have used Si(100) wafers with an oxidised surface. Results show that all samples with an initial Fe thickness greater than 6 nm oxidize practically instantaneously, whereby a constant amount of 2.5 nm of metal is transformed into oxides. For iron thickness lower than 6 nm the time constant for oxidation increases considerably reaching a value of 30 days for the initial Fe thickness equal to 4 nm.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00