Using X-ray microanalysis and scanning electron microscopy $Zn-Ni-SiO_2$ plating containing $SiO_2$ nanoparticles were studied. It was found that X-ray irradiation of the electrolyte leads to the increased Ni concentration in $Zn-Ni-SiO_2(X)$ films and the grain size is also increasing (the grain size is twice that in the unirradiated case). A thickness of $Zn-Ni-SiO_2(X)$ plating is 20 μm and a thickness of the $Zn-Ni-SiO_2$ plating is about 15 μm. The surface morphology was studied using AFM method. Increasing Ni concentration and $Ni_5Zn_{21}$ phase due to X-Ray irradiation of the electrolyte leading to the improved mechanical properties of the coating.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00