Nanostructured thin-film coatings based on titanium nitride, doped with silicon, chromium and aluminium were the object of this study. The creation of a smooth transition layer was carried out by the changing of a supplying nitrogen flow to the vacuum chamber during the application. TiSiN, TiCrN and TiAlN coatings were deposited. The studies of the structure, elemental and phase composition of the coatings were carried out. Also, the performance of coatings was investigated. The results can be used in today's technology, such as mechanical engineering.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00