Boron nitride layers were grown on sapphire substrate by metal organic vapor phase epitaxy system that was originally designed for growth of GaN. Structures were characterized by scanning electron microscopy, atomic force microscopy, the Raman spectroscopy, absorption and time resolved photoluminescence. Presented results confirm successful deposition of BN layers and gives information about basic properties of the material. The Raman line at 1370 cm^{-1} and absorption edges at 5.6-5.9 eV were observed which is related to hexagonal phase.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00