Oxidation process of Fe films under atmospheric conditions is depth limited such that an oxide covering layer with a well-defined thickness is formed by which the underlying metal is prevented from further oxidation. Iron thin film with an initial thickness d_{i}=4 nm was deposited onto 1.6 nm - V(110) buffer layer using UHV magnetron sputtering. The planar growth of Fe oxides was revealed by atomic force microscopy. X-ray photoelectron spectroscopy studies performed after 250 days of oxidation revealed formation of a hematite (α-Fe₂O₃) ultrathin film on the metallic rest of iron. Furthermore, low temperature magnetic measurements of the oxidised Fe ultrathin film revealed an exchange anisotropy which is imposed to the metallic rest. As a result, we have observed at low temperatures a shift and broadening of the hysteresis loops due to the exchange interaction at the metal-oxide interface.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00