STM study of nanostructures grown on Ag/Si(111)-√3×√3 surface evaporated by 8.7 ML Ni Badania STM nanostruktur utworzonych na powierzchni Ag/Si(111)-√3×√3 po naparowaniu 8.7 ML Ni
The thermo-evolution of the interface obtained by room temperature (RT) deposition of 8.7 ML Ni onto an Ag/Si(111)-√3×√3 surface has been studied with the use of scanning tunneling microscopy. Annealing the surface within RT- 573 K temperature range leads to the increase in surface roughness which is followed by its drop upon annealing at 673 K. The comparison of the images presented here with those published for both submonolayer Ni and 4.2 ML Ni indicates coverage-dependent features.
Ewolucja termiczna interfejsu otrzymanego w wyniku osadzenia 8.7 ML Ni na powierzchni Ag/Si(111)-√3×√3 w temperaturze pokojowej (RT) badana była przy użyciu skaningowej mikroskopii tunelowej. Wygrzewanie powierzchni w zakresie temperatur RT- 573 K prowadzi do wzrostu szorstkości powierzchni, po czym w temperaturze 673 K następuje jej spadek. Porównanie obrazów prezentowanych w niniejszej pracy z obrazami opublikowanymi dla pokryć Ni niższych niż 1 monowarstwa oraz dla pokrycia 4.2 ML wskazuje na występowanie cechy zależnych od pokryć.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00