The 2D particle-in-cell method based model of a negative ion source is presented. The spatial distributions of electrostatic potential and plasma component densities are presented. Changes of negative ion distribution and potential as well as the extracted H¯ current with the plasma grid bias voltage are investigated. The presence of the potential well near the plasma grid surface that traps the negative ions is shown. Increase of the H¯ ions density inside the chamber with the negative bias voltage is demonstrated. Influence of the H¯ ion flux outgoing from the plasma grid on the extracted current was checked: increase by factor 2 is observed when the flux rises 4 times. Current-voltage characteristics of the ion source are presented, saturation of the curve is observed above 50 kV.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00