Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

The Influence of the Bias on Mechanical Properties of a-C:H CVD Thin Films

Tytuł:
The Influence of the Bias on Mechanical Properties of a-C:H CVD Thin Films
Autorzy:
Kottfer, D.
Marton, M.
Kaczmarek, Ł.
Kuffova, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/403717.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
mechanics
a-C:H thin film
hardness
Young's modulus
7075 Al alloy
Źródło:
Problemy Mechatroniki : uzbrojenie, lotnictwo, inżynieria bezpieczeństwa; 2018, 9, 1 (31); 23-30
2081-5891
Język:
angielski
Prawa:
CC BY-NC-ND: Creative Commons Uznanie autorstwa - Użycie niekomercyjne - Bez utworów zależnych 4.0
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
In this study a-C:H (hydrogenated amorphous carbon) thin films were deposited on the 7075 Al alloy without an interlayer using a DC CVD (direct current chemical vapor deposition) method with varied negative substrate bias in order to improve the hardness and Young´s modulus. The highest values of films hardness and Young´s modulus were 25.6±3.5 GPa and 140.3±4.6 GPa, respectively. The measured results show a promising potential of the a-C:H coated 7075 Al alloy for low load (up to 10 N) applications.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies