The Analysis Of Structure For The Multi-Layered Of Ge/TiO2 Films Prepared By The Differential Pressure Co-Sputtering

We tried to fabricate the Ge/TiO₂ composite films with the differential pressure (pumping) co-sputtering (DPCS) apparatus in order to improve the optical properties. In the study, the micro structure of these thin films has been evaluated. TEM image revealed that the thin film was alternately layered with TiO₂ and Ge, lattice fringes were observed both of Ge layer and TiO₂ layer. There were portions that lattice fringe of Ge was disturbed near the interface of Ge and TiO₂. X-ray photoelectron spectroscopy elucidated that there were few germanium oxides and a part with the thin film after annealed.

W pracy przedstawiono rezultaty badań mających na celu wytworzenie warstw kompozytowych Ge/TiO₂ wykorzystując aparaturę do różnicowo-ciśnieniowego współrozpylania jonowego (DPCS) w celu poprawy właściwości optycznych. Mikrostruktura warstw została zbadana z zastosowaniem mikroskopii TEM. Analiza TEM wykazała, że cienki film składał się z naprzemiennie ułożonych warstw TiO₂ oraz Ge, a dodatkowo zlokalizowano krawędzie sieci przestrzennych Ge i TiO₂. Rentgenowska spektroskopia fotoelektronów wykazała niewielkie ilości tlenków germanu oraz występowanie cienkiego filmu po procesie wyżarzania.