Próba oceny wpływu składu roztworu modelowego na rozkład wybranych ksenobiotyków w procesie utleniania z wykorzystaniem promieni nadfioletowych i nad-tlenku wodoru
Próba oceny wpływu składu roztworu modelowego na rozkład wybranych ksenobiotyków w procesie utleniania z wykorzystaniem promieni nadfioletowych i nad-tlenku wodoru Evaluation attempt of influence of model solution composition on selected xenobiotic degradation upon oxidation with UV and hydrogen peroxide
Współczesne technologie oczyszczania wody i ścieków coraz częściej wykorzystują różne procesy chemicznego utleniania. W procesach tych mogą powstawać uboczne produkty utleniania o często nieznanej aktywności biologicznej. Z tego względu podjęto próbę oceny stopnia rozkładu dwóch ksenobiotyków (bisfenol A, diklofenak) oraz zmiany toksyczności roztworu modelowego w procesach UV oraz UV/H2O2. Ocenę przebiegu procesu zaawansowanego utleniania przeprowadzono stosując jako roztwory modelowe wodę zdejonizowaną i ścieki oczyszczone z dodatkiem wzorców badanych ksenobiotyków. Wykazano, że stopień rozkładu tych związków był większy w przypadku ich utleniania w środowisku ścieków oczyszczonych niż wody zdejonizowanej. W przypadku wody zdejonizowanej zaobserwowano powstawanie ubocznych produktów rozkładu badanych ksenobiotyków i ich wpływ na toksyczność roztworu modelowego zarówno w procesie UV, jak i UV/H2O2. W zależności od rodzaju zastosowanego procesu utleniania i czasu naświetlania promieniami nadfioletowymi oraz usuwanego związku roztwór modelowy charakteryzował się różną toksycznością. Dowodzi to, że podczas usuwania ksenobiotyków w procesach zaawansowanego utleniania zachodzą złożone zjawiska, które nie są jeszcze do końca rozpoznane.
Modern technologies of water and wastewater treatment have been increasingly employing various processes of chemical oxidation. These processes generate by-products of often unknown biological activity. This is the reason why attempts at evaluation of the two xenobiotics (bisphenol A, diclofenac) degradation level were made as well as of the change in model solution toxicity in the UV and UV/H2O2 oxidation. Assessment of the advanced oxidation mechanism was performed using deionized water and treated wastewater with analytical standards of tested compounds added as model solutions. It was demonstrated that xenobiotic degradation level was higher when oxidation was carried out in the treated wastewater compared to the deionized water. When deionized water was used as an environmental matrix xenobiotic degradation by-products were formed and affected the model solution toxicity both during the UV and UV/H2O2 process. The toxicity of model solution was a function of the oxidation type, the UV exposure time and the compound being degraded. It becomes evident that during xenobiotic removal in the advanced oxidation process complex phenomena occur that have not yet been fully understood.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00