Ocena wpływu zewnętrznych pól magnetycznych i elektromagnetycznych na działanie skaningowego mikroskopu elektronowego

Tematyka artykułu odnosi się do aktualnych zagadnień z zakresu skanin-gowej mikroskopii elektronowej. Odkształcenia obrazu struktury badanego obiektu spowodowane wpływem zewnętrznych pól magnetycznych lub elektromagnetycznych są jednym z najczęstszej spotykanych niepożądanych efektów w mikroskopii. Prowadzone w tym zakresie analizy i badania mają na celu przede wszystkim uzyskanie oceny ilościowej dotyczącej indukcji pola magnetycznego przenikającego przez komorę mikroskopu oraz jej wpływu na wartość odchylenia wiązki padającej na obiekt badany (np. element półprzewodnikowy).

In the paper some tasks deal with Scanning Electron Microscope (SEM) are presented. Image deformation caused by electromagnetic interference (EMI) is one of the most frequent undesirable effects in practical scanning electron microscopy. They usually appear as a constant or periodic deformation of vertical edges of an observed specimen. Available, but still very expensive methods for decreasing their influence are shielding and electromagnetic field compensation. The other approach is digital image processing for its correction. However, elimination of the distortions (with hardware or software methods) would be more effective when their influence on microscope system are known or predictable. The main goal of current investigations is work out a method for quantitative measurement of magnetic field in the microscope chamber and estimation of its influence on electon beam deflaction. The results obtained by the use of scanning electron microscope were verified by comparing its with the ones obtained using alternative magnetic field meter.