We investigate experimental dependence of the third harmonic generation efficiency in the n-type Si crystals on the geometrical dimensions of the sample, polarization and power of the fundamental wave. The efficiency increases monotonically with the rise of the sample thickness up to a threshold value, and decreases dramatically above the threshold. At shorter propagation distances the generation efficiency could be correctly simulated using the layered medium approximation and the numerically calculated electron drift velocity response to the pumping wave electric field to describe the change of the semiconductor properties under high-power microwave irradiation.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00