Undoped, nitrogen-doped and aluminum-nitrogen co-doped ZnO films were deposited on Si substrates by magnetron sputtering using layer-by-layer method of growth. X-ray photoelectron spectroscopy was employed to characterize electronic properties of undoped and nitrogen doped ZnO films. The effects of N and N-Al incorporation into the ZnO matrix on the X-ray photoelectron spectroscopy core-level and valence-band spectra of the films were studied and discussed.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00