Specjalizowane układy pozycjonowania podłoży w komorach próżniwych przeznaczonych do realizacji procesów PVD Specialized systems of substrate positioning in vacuum chambers intended for PVD processes
W artykule przedstawiono rozwiązania techniczne układów pozycjonowania podłoży pokrywanych cienkimi warstwami w procesach PVD. Opisano trzystopniowy obrotnik planetarny o elastycznej, zmiennej konfiguracji, układ z poziomą osią obrotu i rozwiązania przeznaczone do całkowitego pokrywania drobnych elementów osiowo symetrycznych.
This article presents technical solutions for positioning substrates covered by thin layers in PVD processes. It describes a three-stage planetary positioner with flexible configuration with a hotizontal rotation axis. This article details solutions involving completely covering small symetrical elements.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00