We considered the reasons of superdiffusivity and measured profiles of boron and phosphorus in crystalline silicon at room temperature. The superdiffusivity or ultrafast diffusion of metastable vacancies at room temperature in Si crystal irradiated by soft X-rays was obtained experimentally. In this work, we presented experimentally obtained diffusion coefficients of singly and doubly negatively charged long-lived excited vacancies. These high concentration charged metastable vacancies (about $10^{13} cm^{-3}$) at room temperature can very fast diffuse changing electrical conductivity and the Hall mobility of carriers. We measured the superdiffusivity of negatively charged vacancies, generated by the Auger effect in the regions of the sample, which were not affected by X-rays. In this paper, we presented the obtained superdiffusion profiles of boron and phosphorus in crystalline silicon measured with secondary-ion mass spectrometer.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00