Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Electrochemically-Gated Field-Effect Transistor with Indium Tin Oxide Nanoparticles as Active Layer

Tytuł:
Electrochemically-Gated Field-Effect Transistor with Indium Tin Oxide Nanoparticles as Active Layer
Autorzy:
Dasgupta, S.
Dehm, S.
Kruk, R.
Hahn, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1808330.pdf
Data publikacji:
2009-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
72.15.Eb
73.63.Bd
81.07.Bc
82.45.Vp
85.30.Tv
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 115, 2; 473-476
0587-4246
1898-794X
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
An electrochemically-gated junction field-effect transistor with metallic conducting indium tin oxide nanoparticle array as active layer is reported. Fabrication of a field-effect device with a degenerative semiconductor like indium tin oxide (carrier concentration $10^{20}-10^{21} cm^{-3}$) is possible by exploiting the high surface-to-volume ratio of nanoparticles and high surface charge density achievable by electrochemical gating. The on/off ratio obtained is 325 although the applied potential was restricted to the capacitive double layer region (to ensure high repeatability) without allowing redox reactions to take place at the interface.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies